工业除尘设备主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触的大气的洁净度以及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为净化车间。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，净化车间无尘是必然的要求。

　　地面是制药厂洁净是维护结构中受重视的部分之一，在其地面材料的选型中，除了满足地面的共同要求外，亦应考虑地面的发尘量和施工难易程度以及成本等。

　　一般要求是：

　　1．工业除尘设备良好的耐磨性能；

　　2．工业除尘设备清洗、维护方便。

　　3．工业除尘设备可以抵抗酸碱液和药液的侵蚀；

　　4．工业除尘设备防滑； 抗静电；

　　5．工业除尘设备二次施工简便，地面可无接缝加工； 其中地面的耐磨性是主要要求，这也是基于减低地面发尘量的需要。